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可为红外热成像乐天堂元件提供下述膜层：

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于锗（Ge）之上，3-5µm）

3 - 5µm的高效宽波段增透（BBAR）膜层可为被动成像系统提供较低的反射率以及较高的传输率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于锗（Ge）之上，8-12µm）

此膜层可提供较低的反射率/较高的传输率，其设计覆盖8-12μm的区域并且满足下文规定的环境保护要求。此类低反射率的膜层将应用在FLIR或被动辐射系统中。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于硅（Si）之上，3-5µm）

3-5µm的高效宽波段膜层可为被动成像系统提供较低的反射率以及较高的传输率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于多光谱硫化锌（ZnS MS）之上，3-5µm）

3-5µm的高效宽波段增透（BBAR）膜层可为被动成像系统提供较低的反射率以及较高的传输率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于多光谱硫化锌（ZnS MS）与常规硫化锌（ZnS）之上，8-12µm）

此膜层可提供较低的反射率/较高的传输率，其设计覆盖8-12μm的区域并且满足下文规定的环境保护要求。此类低反射率的膜层将应用在FLIR或被动辐射系统中。此膜层可以被应用到常规硫化锌（ZnS）与多光谱硫化锌（ZnS MS）等级中。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于硒化锌（ZnSe）之上，3-5µm）

3-5µm的高效宽波段增透（BBAR）膜层可为被动成像系统提供较低的反射率以及较高的输出率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。

高效宽波段增透BBAR）膜层位于硒化锌（ZnSe）之上，8-12µm）

此膜层可提供较低的反射率/较高的输出率，其设计覆盖8-12μm的区域并且满足下文规定的环境保护要求。此类低反射率的膜层将应用在FLIR或被动辐射系统中。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于锗（Ge）之上，3-5µm以及8-12μm）

此种膜层设计用于被动成像系统，以提供较低的反射率与较高的输出率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。

高效宽波段增透（BBAR）膜层（位于硒化锌（ZnSe）之上，3-5µm以及8-12μm）

此种膜层设计用于被动成像系统，以提供较低的反射率与较高的输出率。然而，此种膜层不适用于大功率激光器的应用。